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GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法

GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法

Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry

GB/T 24575-2009

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标准GB/T 24575-2009标准状态

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  • 标准名称：硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
  • 标准号：GB/T 24575-2009
    中国标准分类号：H80
  • 发布日期：2009-10-30
    国际标准分类号：29.045
  • 实施日期：2010-06-01
    技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准：
    主管部门：国家标准化管理委员会
  • 标准分类：电气工程半导体材料

内容简介

国家标准《硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每种金属总量。本标准测试的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。 本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。 本标准特别适用于位于晶片表面约5nm 深度内的表面金属沾污的测试。 本标准适用于面密度范围在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的测试。本方法的检测限取决于空白值或计数率极限,因仪器的不同而不同。

起草单位

信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所、

起草人

何友琴、 马农农、 丁丽、

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