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GB/T 14142-1993 硅外延层晶体完整性检查方法 腐蚀法

GB/T 14142-1993 硅外延层晶体完整性检查方法 腐蚀法

Test method for sheet resistance of silicon epitaxial, diffused and ion-implanted layers using a collinear four-probe array

GB/T 14142-1993

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标准GB/T 14142-1993标准状态

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  • 标准名称:硅外延层晶体完整性检查方法 腐蚀法
  • 标准号:GB/T 14142-1993
    中国标准分类号:H26
  • 发布日期:1993-02-06
    国际标准分类号:
  • 实施日期:1993-10-01
    技术归口:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准:被GB/T 14142-2017被GB/T 14142-2017 代替
    主管部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:

内容简介

本标准规定了用化学腐蚀显示,并用金相显微镜检验硅外延层晶体缺陷的方法 本标准适用于硅外延层中堆垛层错和位错密度测量。硅外延层厚度应大于2μm测量范围为010000cm。
国家标准《硅外延层晶体完整性检查方法 腐蚀法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。

起草单位

峨眉半导体材料研究所、

起草人

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