GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
GB/T 24578-2015
国家标准推荐性标准GB/T 24578-2015标准状态
- 发布于:2015-12-10
- 实施于:2017-01-01
- 废止
内容简介
国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了使用全反射X光荧光光谱,定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。本标准适用于硅单晶抛光片、外延片(以下称硅片),尤其适用于硅片清洗后自然氧化层,或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的定,测定范围为10 9 atoms/cm 2~ 10 15 atoms/cm 2 。本标准同样适用于其他半导体材料,如砷化镓、碳化硅、SOI等镜面抛光晶片表面金属沾污的测定。对良好的镜面抛光表面,可探测深度约5nm,分析深度随表面粗糙度的改善而增大。本方法可检测元素周期表中原子序数 16(S)~92(U)的元素,尤其适用于测定以下元素:钾、钙、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、砷、钼、钯、银、锡、、钨、铂、金、汞和铅。本方法的检测限取决于原子序数、激励能、激励X射线的光通量、设备的本底积分时间以及空白值。对恒定的设备参数,无干扰检测限是元素原子序数的函数,其变化超过两个数量级。重复性和检限的关系见附录A本方法是非破坏性的,是对其他测试方法的补充,与不同表面金属测试方法的比较及校准样品的标定参见附录B。
起草单位
有研新材料股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心、万向硅峰电子股份有限公司、
起草人
孙燕、 李俊峰、 朱兴萍、 楼春兰、潘紫龙、
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