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GB/T 30653-2014 Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法

GB/T 30653-2014 Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法

Test method for crystal quality of III-nitride epitaxial layers

GB/T 30653-2014

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标准GB/T 30653-2014标准状态

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  • 标准名称:Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法
  • 标准号:GB/T 30653-2014
    中国标准分类号:H21
  • 发布日期:2014-12-31
    国际标准分类号:77.040.20
  • 实施日期:2015-09-01
    技术归口:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:冶金金属材料试验金属材料无损检测

内容简介

国家标准《Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了利用高分辨X射线衍射仪测试Ⅲ族氮化物外延片结晶质量的方法原理、仪器、测试环境、样品、测试、测试结果的分析、精密度以及测试报告。 本标准适用于在氧化物衬底(Al2O3、ZnO等)或半导体衬底(GaN、Si、GaAs、SiC等)上外延生长的氮化物(Ga、In、Al)N单层或多层异质外延片结晶质量的测试。其他异质外延片结晶质量的测试也可参考本标准。

起草单位

中国科学院半导体研究所、

起草人

孙宝娟、 赵丽霞、 李晋闽、 王军喜、曾一平、

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