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GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法

GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法

Test method of particles on silicon wafer surfaces

GB/T 19921-2005

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标准GB/T 19921-2005标准状态

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  • 标准名称：硅抛光片表面颗粒测试方法
  • 标准号：GB/T 19921-2005
    中国标准分类号：H17
  • 发布日期：2005-09-19
    国际标准分类号：77.040.01
  • 实施日期：2006-04-01
    技术归口：全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准：被GB/T 19921-2018代替
    主管部门：中国有色金属工业协会
  • 标准分类：冶金金属材料试验金属材料试验综合

内容简介

国家标准《硅抛光片表面颗粒测试方法》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，主管部门为中国有色金属工业协会。
本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。 本标准适用于硅抛光片，也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片（如化合物抛光片）。 本标准也可适用于观测硅抛光片表面的划痕、橘皮、凹坑、波纹等缺陷，但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能，并与检测时的初始设置有关。 注：本标准涉及的方法通常选用波长(48~6 33)nm的激光光源，最常用的是488nm的氩离子激光器；目前可测量的最小值颗粒直径为0.06μm或更小些。

起草单位

北京有色金属研究总院、

起草人

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