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GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy

GB/T 24578-2009

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标准GB/T 24578-2009标准状态

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  • 标准名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
  • 标准号：GB/T 24578-2009
    中国标准分类号：H80
  • 发布日期：2009-10-30
    国际标准分类号：29.045
  • 实施日期：2010-06-01
    技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准：被GB/T 24578-2015代替
    主管部门：国家标准化管理委员会
  • 标准分类：电气工程半导体材料

内容简介

国家标准《硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X 光荧光光谱测试方法,本方法使用单色X 光源全反射X 光荧光光谱的方法定量测定硅单晶抛光衬底表面层的元素面密度。 本标准适用于N 型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片,尤其适用于清洗后硅片自然氧化层,或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。

起草单位

有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子有限公司、

起草人

孙燕、 李俊峰、 张静、 翟富义、 楼春兰、卢立延、

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