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GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环

GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环

Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine

GB/T 41652-2022

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标准GB/T 41652-2022标准状态

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  • 标准名称:刻蚀机用硅电极及硅环
  • 标准号:GB/T 41652-2022
    中国标准分类号:H82
  • 发布日期:2022-07-11
    国际标准分类号:29.045
  • 实施日期:2023-02-01
    技术归口:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:电气工程半导体材料

内容简介

国家标准《刻蚀机用硅电极及硅环》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200mm~450mm的硅电极及硅环。

起草单位

有研半导体硅材料股份公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、

起草人

库黎明、 孙燕、 夏秋良、 潘金平、 闫志瑞、张果虎、

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