标准详情
- 标准名称:硅、锗单晶电阻率测定 直流两探针法
- 标准号:GB/T 1551-1995
- 中国标准分类号:H21
- 发布日期:1995-04-18
- 国际标准分类号:77.040.30
- 实施日期:1995-12-01
- 技术归口:全国半导体材料和设备标准化技术委员会
- 代替标准:代替GB/T 5253-1985;GB/T 1551-1979被GB/T 1551-2009代替
- 主管部门:国家标准化管理委员会
- 标准分类:冶金
本标准规定了用直流两探针测量硅和锗单晶锭电阻率的方法。 本标准适用于测量截面积均匀的圆形、方形或矩形单晶锭的电阻率。测量范围:硅单晶为10~10Ω·cm,锗单晶为5×10~10Ω·cm。试样长度与截面最大尺寸之比应不小于3:1
上海有色金属工业总公司
GB/T 1552-1995 硅、锗单晶电阻率测定 直排四探针法
硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
20181809-T-469 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
GB/T 1551-2021 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
20075054-T-469 锗单晶电阻率直流四探针测量方法
GB/T 26074-2010 锗单晶电阻率直流四探针测量方法
20065629-T-469 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
GB/T 6617-2009 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
GB/T 6617-1995 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
YS/T 602-2017 区熔锗锭电阻率测试方法 两探针法
* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。