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GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

GB/T 4058-1995 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers

GB/T 4058-1995

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标准GB/T 4058-1995标准状态

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  • 标准名称：硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
  • 标准号：GB/T 4058-1995
    中国标准分类号：H26
  • 发布日期：1995-04-18
    国际标准分类号：77.040.30
  • 实施日期：1995-12-01
    技术归口：全国半导体材料和设备标准化技术委员会
  • 代替标准：代替GB 6622-1986;GB 6623-1986;GB/T 4058-1983被GB/T 4058-2009代替
    主管部门：国家标准化管理委员会
  • 标准分类：冶金金属材料试验金属材料化学分析

内容简介

本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。 本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。

起草单位

峨嵋半导体材料厂

起草人

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