GB/T 40110-2021 表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染_标准下载

GB/T 40110-2021 表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

GB/T 40110-2021

国家标准推荐性

收藏报错

标准GB/T 40110-2021标准状态

发布于：2021-05-21
实施于：2021-12-01
废止

标准详情

标准名称：表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
标准号：GB/T 40110-2021
中国标准分类号：G04
发布日期：2021-05-21
国际标准分类号：71.040.40
实施日期：2021-12-01
技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准化管理委员会
标准分类：化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。本文件适用于以下情形：——原子序数从16(S)到92(U)的元素；——原子表面密度介于1X1010atoms/cm2～1X1014atoms/cm2之间的污染元素；——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5X108atoms/cm2~5X1012atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。

起草单位

中国计量科学研究院、华南理工大学、

起草人

王海、张艾蕊、徐昕荣、范燕、王梅玲、任丹华、

相近标准

GB/T 30701-2014 表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
20211956-T-469 半导体晶片表面金属沾污的测定全反射X射线荧光光谱法
GB/T 42360-2023 表面化学分析水的全反射X射线荧光光谱分析
GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
YS/T 703-2014 石灰石化学分析方法元素含量的测定 X射线荧光光谱法
YS/T 806-2020 铝及铝合金化学分析方法元素含量的测定 X射线荧光光谱法
20220732-T-610 镁及镁合金化学分析方法第23部分：元素含量的测定波长色散X射线荧光光谱法
YS/T 575.23-2021 铝土矿石化学分析方法第23部分：元素含量的测定 X射线荧光光谱法
YS/T 575.23-2009 铝土矿石化学分析方法第23部分：X射线荧光光谱法测定元素含量
SN/T 2696-2010 煤灰和焦炭灰成分中主、次元素的测定 X射线荧光光谱法

* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。

标准质量：

下载说明

① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准，期待。
② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们，感谢！
③ 本站资源均来源于互联网，仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。

在线纠错

标准过期下载问题模糊有误其它问题