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GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

Test method for gloss of silicon wafer

GB/T 42789-2023

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标准GB/T 42789-2023标准状态

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  • 标准名称:硅片表面光泽度的测试方法
  • 标准号:GB/T 42789-2023
    中国标准分类号:H21
  • 发布日期:2023-08-06
    国际标准分类号:77.040
  • 实施日期:2024-03-01
    技术归口:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:国家标准化管理委员会
  • 标准分类:冶金金属材料试验

内容简介

国家标准《硅片表面光泽度的测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试,不适用于表面有图形的硅片的测试。

起草单位

浙江金瑞泓科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东有研半导体材料有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、浙江旭盛电子有限公司、金瑞泓科技(衢州)有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、天津中环领先材料技术有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、巢湖学院、

起草人

梁兴勃、 李琴、 潘金平、 李素青、 边永智、 庄智慧、 韩云霄、 徐志群、 王可胜、 张海英、林松青、张雪囡、由佰玲、沈辉辉、焦二强、付明全、詹玉峰、

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