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GB/T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

GB/T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies

GB/T 35309-2017

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标准GB/T 35309-2017标准状态

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  • 标准名称：用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程
  • 标准号：GB/T 35309-2017
    中国标准分类号：H17
  • 发布日期：2017-12-29
    国际标准分类号：77.040
  • 实施日期：2018-07-01
    技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
  • 代替标准：
    主管部门：国家标准化管理委员会
  • 标准分类：冶金金属材料试验

内容简介

国家标准《用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主杂质浓度的方法。本标准适用于尺寸为600μm~3000μm的颗粒状多晶硅，其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照本标准执行。

起草单位

江苏中能硅业科技发展有限公司、天津市环欧半导体材料技术有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、新特能源股份有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、

起草人

王桃霞、 刘晓霞、 柳德发、 胡伟、 由佰玲、 秦榕、 耿全荣、鲁文锋、邱艳梅、银波、严大洲、

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