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YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材

YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材

YS/T 819-2012

行业标准-YS 有色金属推荐性
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标准YS/T 819-2012标准状态

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标准详情

  • 标准名称：电子薄膜用高纯铜溅射靶材
  • 标准号：YS/T 819-2012
    中国标准分类号：H62
  • 发布日期：2012-11-07
    国际标准分类号：77.150
  • 实施日期：2013-03-01
    技术归口：全国有色金属标准化中心
  • 代替标准：
    主管部门：工业和信息化部
  • 标准分类：冶金化工技术YS 有色金属

内容简介

行业标准《电子薄膜用高纯铜溅射靶材》由全国有色金属标准化中心归口上报，主管部门为工业和信息化部。本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同（或订货单）内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材（以下简称高纯铜靶）。

起草单位

宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司

起草人

王学泽、宋佳

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