当前位置：标准网 行业标准

YS/T 839-2012 硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法

YS/T 839-2012 硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法

YS/T 839-2012

行业标准-YS 有色金属推荐性
收藏报错

标准YS/T 839-2012标准状态

  1. 发布于：
  2. 实施于：
  3. 废止

标准详情

  • 标准名称：硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法
  • 标准号：YS/T 839-2012
    中国标准分类号：K15
  • 发布日期：2012-11-07
    国际标准分类号：77.120
  • 实施日期：2013-03-01
    技术归口：全国有色金属标准化中心
  • 代替标准：
    主管部门：工业和信息化部
  • 标准分类：冶金有色金属其他有色金属及其合金YS 有色金属

内容简介

行业标准《硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法》由全国有色金属标准化中心归口上报，主管部门为工业和信息化部。本方法规定了用椭圆偏振测试方法测量生长或沉积在硅衬底上的绝缘体薄膜厚度及折射率的方法。本方法适用于薄膜对测试波长没有吸收和衬底对测试波长处不透光、且已知测试波长处衬底折射率和消光系数的绝缘体薄膜厚度及折射率的测量。对于非绝缘体薄膜，满足一定条件时,方可采用本方法。

起草单位

中国计量科学研究院、有研半导体材料股份有限公司、瑟米莱伯贸易（上海）有限公司

起草人

高英、武斌

相近标准

GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法
GB/T 33826-2017 玻璃衬底上纳米薄膜厚度测量 触针式轮廓仪法
GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
GB/T 40293-2021 红外硫系光学薄膜折射率测试方法
GB/T 20220-2006 塑料薄膜和薄片 样品平均厚度，卷平均厚度及单位质量面积的测定 称量法（称量厚度）
GB/T 42674-2023 光学功能薄膜 微结构厚度测试方法
GB/T 30857-2014 蓝宝石衬底片厚度及厚度变化测试方法
GB/T 6616-2009 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法
YS/T 14-2015 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法

* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。

  • 标准质量：

    • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准，期待。
    ② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们，感谢！
    ③ 本站资源均来源于互联网，仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。
  • 在线纠错
    • 标准过期 下载问题 模糊有误 其它问题

    「相关推荐」