当前位置:标准网 行业标准

YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

YS/T 935-2013

行业标准-YS 有色金属推荐性
收藏报错

标准YS/T 935-2013标准状态

  1. 发布于:
  2. 实施于:
  3. 废止

标准详情

  • 标准名称:电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
  • 标准号:YS/T 935-2013
    中国标准分类号:H60
  • 发布日期:2013-10-17
    国际标准分类号:77.150
  • 实施日期:2014-03-01
    技术归口:全国有色金属标准化技术委员会
  • 代替标准:
    主管部门:工业和信息化部
  • 标准分类:冶金有色金属产品有色金属其他有色金属产品YS 有色金属

内容简介

行业标准《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属建设靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材(以下简称靶材)。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。

起草单位

有研亿金新材料股份有限公司、

起草人

张涛、何金江、

相近标准

YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材
20110426-T-610 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材
XB/T 301-2013 高纯金属镝
XB/T 302-2013 高纯金属铽
XB/T 301-2019 高纯金属镝
XB/T 302-2019 高纯金属铽

* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

  • 标准质量:
  • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准,期待。
    ② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们,感谢!
    ③ 本站资源均来源于互联网,仅供网友学习交流,若侵犯了您的权益,请联系我们予以删除。