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SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则

SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则

SJ 20744-1999

行业标准-SJ 电子强制性
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标准SJ 20744-1999标准状态

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标准详情

  • 标准名称:半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则
  • 标准号:SJ 20744-1999
    中国标准分类号:H80
  • 发布日期:1999-11-10
    国际标准分类号:29.045
  • 实施日期:1999-12-01
    技术归口:中国电子技术标准化研究所
  • 代替标准:
    主管部门:
  • 标准分类:电气工程SJ 电子

内容简介

本标准规定了半导体材料中杂质含量的红外吸收分析方法的术语、基本原理、仪器设备、样品制备、测量条件、测量步骤和测量结果的计算。本标准适用于在红外光谱区为透明的并在该区域产生杂质吸收带的任何半导体单晶材料红外分析方法。

起草单位

电子工业部第四十六研究所

起草人

何秀坤、汝琼娜、李光平、李静

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