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T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱

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T/CSTM 01199-2024

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  • 标准名称：多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
  • 标准号：T/CSTM 01199-2024
    中国标准分类号：M745
  • 发布日期：2024-01-05
    国际标准分类号：29.045
  • 实施日期：2024-04-05
    团体名称：中关村材料试验技术联盟
  • 标准分类：电气工程M 科学研究和技术服务业

内容简介

本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法
本文件适用于70nm~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征
本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70nm~240nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。

起草单位

季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司。

起草人

范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋，江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜。

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