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GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则

GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则

Silicon-based MEMS fabrication technology - The basic regulation of layout design

GB/T 28274-2012

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标准GB/T 28274-2012标准状态

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  • 标准名称：硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
  • 标准号：GB/T 28274-2012
    中国标准分类号：L55
  • 发布日期：2012-05-11
    国际标准分类号：31.200
  • 实施日期：2012-12-01
    技术归口：全国微机电技术标准化技术委员会
  • 代替标准：
    主管部门：国家标准化管理委员会
  • 标准分类：电子学集成电路、微电子学

内容简介

国家标准《硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则》由TC336（全国微机电技术标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。

起草单位

北京大学、中国电子科技集团第十三研究所、西北工业大学、中机生产力促进中心、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、

起草人

张大成、 王玮、 姜森林、 崔波、 刘伟、杨芳、

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