当前位置：标准网 国家标准

GB/T 20175-2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法

GB/T 20175-2006 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法

Surface chemical analysis-Sputter depth profiling-Optimization using layered systems as reference materials

GB/T 20175-2006

国家标准推荐性
收藏 报错

标准GB/T 20175-2006标准状态

  1. 发布于：
  2. 实施于：
  3. 废止

标准详情

  • 标准名称：表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
  • 标准号：GB/T 20175-2006
    中国标准分类号：N33
  • 发布日期：2006-03-27
    国际标准分类号：71.040.40
  • 实施日期：2006-11-01
    技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
  • 代替标准：
    主管部门：国家标准化管理委员会
  • 标准分类：化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
为使俄歇电子能谱、X射线光电子能谱和二次离子质谱的仪器设定达到深度分辨的优化目的，本标准采用适当的单层和多层膜系参考物质，提供优化溅射深度剖析参数的指南。特殊多层膜系的使用不包括在本标准内。

起草单位

清华大学电子工程系、

起草人

查良镇、 陈旭、 黄天斌、 刘林、 王光普、黄雁华、

相近标准

20233734-T-469 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
GB/T 29557-2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量
GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
GB/T 32999-2016 表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率
GB/T 34326-2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法
GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
GB/T 32997-2016 表面化学分析 辉光放电发射光谱定量成分深度剖析的通用规程
GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
SJ/T 10457-1993 俄歇电子能谱术语深度剖析标准导则

* 特别声明：资源收集自网络或用户上传，版权归原作者所有，如侵犯您的权益，请联系我们处理。

  • 标准质量：

    • 下载说明

  • ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准，期待。
    ② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们，感谢！
    ③ 本站资源均来源于互联网，仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。
  • 在线纠错
    • 标准过期 下载问题 模糊有误 其它问题

    「相关推荐」