GB/T 20176-2006 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度_标准下载

GB/T 20176-2006 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

GB/T 20176-2006

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标准GB/T 20176-2006标准状态

发布于：2006-03-27
实施于：2006-11-01
废止

标准详情

标准名称：表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
标准号：GB/T 20176-2006
中国标准分类号：N33
发布日期：2006-03-27
国际标准分类号：71.040.40
实施日期：2006-11-01
技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准化管理委员会
标准分类：化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3～1×10的20次方atoms/cm3。

起草单位

清华大学电子工程系、

起草人

查良镇、陈旭、黄天斌、刘林、黄雁华、王光普、

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