GB/T 30701-2014 表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定_标准下载

GB/T 30701-2014 表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

GB/T 30701-2014

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标准GB/T 30701-2014标准状态

发布于：2014-03-27
实施于：2014-12-01
废止

标准详情

标准名称：表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
标准号：GB/T 30701-2014
中国标准分类号：G04
发布日期：2014-03-27
国际标准分类号：71.040.40
实施日期：2014-12-01
技术归口：全国微束分析标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准化管理委员会
标准分类：化工技术分析化学化学分析

内容简介

国家标准《表面化学分析硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口，TC38SC2（全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。 ‖ 注：可采用石墨炉原子吸收光谱法或电感耦合等离子体质谱法代替全反射X射线荧光光谱法来测定所收集的元素。本标准适用于原子表面密度介于6×109 atoms/cm2～5×1011 atoms/cm2范围的铁和/或镍。

起草单位

中国计量科学研究院、

起草人

王海、宋小平、冯流星、王梅玲、高思田、

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