GB/T 44928-2024 微电子学微光刻技术术语_标准下载

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GB/T 44928-2024 微电子学微光刻技术术语

Terms of microlithography technology for microelectronics

GB/T 44928-2024

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标准GB/T 44928-2024标准状态

发布于：2024-12-31
实施于：2024-12-31
废止

标准详情

标准名称：微电子学微光刻技术术语
标准号：GB/T 44928-2024
中国标准分类号：L90
发布日期：2024-12-31
国际标准分类号：31.030
实施日期：2024-12-31
技术归口：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
代替标准：
主管部门：国家标准委
标准分类：电子学电子技术专用材料

内容简介

国家标准《微电子学微光刻技术术语》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC4（全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会）执行，主管部门为国家标准委。
本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术，先进光刻技术，微光刻图形化和图形数据处理技术，微光刻感光材料、铬板与基板材料，光掩模技术，光刻工艺（曝光、刻蚀与微纳米加工）技术，电子束掩模制造与直写技术，光刻及掩模质量参数测量和评定，掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。
本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。

起草单位

中国科学院微电子研究所、

起草人

陈宝钦、王香、李新涛、冯伯儒、薛彩荣、李和委、王力玉、薛丽君、郝美玲、

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