SJ/T 11508-2015 集成电路用 正胶显影液
SJ/T 11508-2015
行业标准-SJ 电子推荐性收藏报错
标准SJ/T 11508-2015标准状态
- 发布于:2015-04-30
- 实施于:2015-10-01
- 废止
内容简介
行业标准《集成电路用 正胶显影液》由全国半导体设备和材料标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。本标准规定了集成电路用正胶显影液的术语、性状、技术要求、试验方法、检验规则和包装、标志、储存、运输等。本标准适用于集成电路用正胶显影液,以下简称正胶显影液。本标准不涉及使用安全性问题。本标准的使用人应负责建立适当的安全健康条款及使用范围的限制。
起草单位
江阴润玛电子材料股份有限公司、工业和信息化部电子工业标准化研究院、
起草人
戈士勇、何珂、王周霞、
相近标准
SJ/T11511-2015液晶显示器用正胶显影液
GB/T12842-1991膜集成电路和混合膜集成电路术语
GB/T8976-1996膜集成电路和混合膜集成电路总规范
GB/T9178-1988集成电路术语
GB/T15138-1994膜集成电路和混合集成电路外形尺寸
JB/T6156-1992重氮复印机用无氨显影液技术条件
JB/T6156-2007重氮复印机用无氨显影液技术条件
GB/T16465-1996膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用能力批准程序)
JC/T2372-2016集成电路用石英舟
20030159-T-339半导体器件集成电路第2-20部分:数字集成电路低压集成电路族规范
* 特别声明:资源收集自网络或用户上传,版权归原作者所有,如侵犯您的权益,请联系我们处理。
- 标准质量:
- ① 欢迎分享本站未收录或质量优于本站的标准,期待。
② 标准出现数据错误、过期或其它问题请点击下方「在线纠错」通知我们,感谢!
③ 本站资源均来源于互联网,仅供网友学习交流,若侵犯了您的权益,请联系我们予以删除。
下载说明
「相关推荐」
- 1 SJ/T 11507-2015 集成电路用 氧化层缓冲腐蚀液
- 2 SJ/T 11460.6.1-2015 液晶显示用背光组件 第6-1部分: 测试方法 光学与
- 3 SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
- 4 SJ/T 11492-2015 光致发光法测定磷镓砷晶片的组分
- 5 SJ/T 11491-2015 短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量
- 6 SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
- 7 SJ/T 11497-2015 砷化镓晶片热稳定性的试验方法
- 8 SJ/T 11496-2015 红外吸收法测量砷化镓中硼含量
- 9 SJ/T 11495-2015 硅中间隙氧的转换因子指南
- 10 SJ/T 11502-2015 碳化硅单晶抛光片规范
- 11 SJ/T 11501-2015 碳化硅单晶晶型的测试方法
- 12 SJ/T 11500-2015 碳化硅单晶晶向的测试方法